碳化硅的“超能力”

特性维度 第一代:硅 (Si) 第二代:砷化镓 (GaAs) 第三代:碳化硅 (SiC) SiC带来的核心优势
禁带宽度 (eV) 1.12 (窄) 1.43 (中) ~3.26 (宽) 耐高温、抗辐射、耐高压
击穿电场 (MV/cm) 0.3 (低) 0.4 (中) 2.8 (极高) 器件可以做得很薄很小,功率密度大增
热导率 (W/m·K) 150 (尚可) 55 (较差) ~490 (极优) 散热能力强,系统更紧凑可靠
电子饱和漂移速度 (×10⁷ cm/s) 1.0 (慢) 2.0 (快) 2.2 (很快) 开关频率高,能耗和元件体积大幅降低
典型应用 逻辑芯片、低压功率器件 射频、光电子 高温、高压、大功率场景 (如主驱逆变器、快充桩) 能效、频率、功率密度全面超越

🔬 特性深度解析

  1. 禁带宽度大

  2. 击穿电场高

  3. 热导率高

  4. 电子饱和漂移速度快

总而言之,碳化硅的这些特性不是孤立的,它们协同工作,共同解决了现代电力电子系统在高效率、高功率密度、小型化、高可靠性方面的核心痛点。